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ICS 31.220 L 95 中华人民共和国国家标准 GB/T 36646—2018 制备氮化物半导体材料用 氢化物气相外延设备 Equipment for preparation of nitride semiconductor materials by hydride vapor phase epitaxy 2019-01-01实施 2018-09-17发布 国家市场监督管理总局 发布 中国国家标准化管理委员会 GB/T 36646—2018 目 次 前言 1范围 规范性引用文件 3术语和定义 4产品分类和标记 4.1 分类 4.2 型号标记 5工作条件 5.1 电源 5.2 环境温度 5.3 相对湿度 5.4 大气压力 5.5 洁净室等级 5.6 冷却水 动力气体 5.7 6要求 6.1 压升率 6.2 气体输运系统 电气系统 6.3 6.4 控制软件 6.5 整机性能 6.6 安全防护 7检测方法 7.1 压升率测试 7.2 气体输运系统检测 7.3 电气系统检测 7.4 控制软件检测 7.5 整机性能检测 7.6 安全防护检测 检验规则 8 8.1 检验分类 8.2 型式检验 8.3 出厂检验 10 GB/T36646—2018 8.4 判定规则 10 9标志、包装、运输和储存 10 9.1 标志· 10 9.2 包装 11 9.3 运输 11 9.4 储存 11 附录A(规范性附录) 氮化物外延材料厚度测量 12 GB/T 36646—2018 前言 本标准按照GB/T1.1一2009给出的规则起草。 请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别这些专利的责任。 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203提出并归口。 本标准起草单位:东莞市中半导体科技有限公司、中国电子技术标准化研究院。 本标准主要起草人:刘鹏、孙永健、丁晓民、冯亚彬、王健辉。 Ⅲ GB/T36646-—2018 制备氮化物半导体材料用 氢化物气相外延设备 1范围 类和标记、工作条件、要求、检测方法、检验规则、标志、包装、运输和储存。 本标准适用于制备直径50.8mm~152.4mm氮化物半导体材料的HVPE设备。 2规范性引用文件 下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文 件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。 GB/T191—2008包装储运图示标志 GB/T3768一2017声学声压法测定噪声源声功率级和声能量级采用反射面上方包络测量面 的简易法 GB/T5080.7一1986设备可靠性试验恒定失效率假设下的失效率与平均无故障时间的验证试 验方案 GB 5226.12008 机械电气安全机械电气设备 厂第1部分:通用技术条件 GB/T63881986运输包装收发货标志 GB/T14264—2009半导体材料术语 GB50073—2013洁净厂房设计规范 GB/T50087—2013工业企业噪声控制设计规范 GB50646—2011特种气体系统工程技术规范 SJ/T37—1996电子工业专用设备型号编制及命名方法 3 术语和定义 GB/T14264—2009和GB50646—2011界定的以及下列术语和定义适用于本文件。 3.1 氢化物气相外延hydridevaporphaseepitaxy 在外延生长所需的化学组分中,至少采用一种氢化物的气相外延。 3.2 反应室 reaction chamber 对衬底片进行外延工艺的腔室。 3.3 载片量loadcapacity 反应室内承载盘上能单层排布直径为50.8mm衬底的最多片数。 注:2时衬底的直径为50.8mm。 1 GB/T36646—2018 3.4 安全模式 safetymode 设备根据运行中的事件触发的状态,根据不同安全等级可给出提示、示警、警报或自动采取相应 措施。 3.5 联锁interlock 当设备发生异常状态时,设备自动进人安全模式的应急措施 3.6 菜单记录功能 recordfunctionofthemenu 当设备运行菜单时,软件以设定的时间间隔对设备的关键参数信息进行记录,并按菜单生成记录文 件的功能。 3.7 全时记录功能alltimerecord 软件不断地以设定的时间间隔对设备的运行状态进行记录,并按指定时间段生成记录文件的功能。 3.8 特种气体 specialilygas 电子产品生产的、掺杂、外延、离子注入、刻蚀等工艺中使用的自燃性、可燃性、毒性、腐蚀性、氧化 性、惰性等特殊气体。 [GB50646—2011,定义2.0.1] 4产品分类和标记 4.1分类 按照喷头相对于衬底的喷气方式,HVPE设备分为: a) 垂直式一反应气体喷出方向与衬底表面垂直; b) 水平式—反应气体喷出方向与衬底表面平行; c) 混合式—一除以上两种喷气方式以外的其他方式 4.2 2型号标记 根据SJ/T37一1996的规定,HVPE设备的型号表示如图1所示。 2 GB/T36646—2018 M XX X 口 改进代号 设计顺序号 主参数 品种代号 形式代号 类别代号 说明: “口”表示字母;“×”表示数字。 SZIC "类别代码,HVPE设备属于表面处理和薄膜淀积设备,根据SJ/T37一1996中表1划分,应使用大写字母“M" 表示; 6形式代码,HVPE设备属于淀积及外延设备,根据SJ/T37—1996中表2划分,应使用数字”8”表示; c品种代码,HVPE设备属于气相外延设备,根据SJ/T37一1996中表2划分,应使用数字"5”表示; d主参数,反应室容量为HVPE设备主参数,使用两位数字表示,不足两位时第一位为空格。 “设计顺序号,从第一台设备开始给定,用阿拉伯数字从“1"起顺序表示; 改进代号,按改进的先后顺序用大写汉语拼音字母"A、B.C”顺序表示。 图1型号示意图 示例: 以反应室容量为19片,设计顺序为2的未改进HVPE设备为例,其型号为: M8519-2A 型号中各要素的含义如下: M 类别代码,“M"表示该HVPE设备为表面处理和薄膜淀积设备; 8 形式代码,“8”表示该HVPE设备为淀积及外延设备; 5 品种代码,“5”表示该HVPE设备为气相外延设备; 19 主参数,“19”表示该HVPE设备的反应室容量为19片; 2 设计顺序号,"2”表示该HVPE设备为第2次设计的设备; A 改进代号,“A”表示该HVPE设备是首次设计未经过改进的版本。 5 工作条件 5.1 电源 电源为三相五线交流电,电压为380V(1士10%);频率为50Hz士0.5Hz。 5.2 环境温度 环境温度为5℃~40℃。 5.3 3相对湿度 相对湿度小于65%,且无凝露 5.4大气压力 大气压力为86kPa~106kPa。 3
GB-T 36646-2018 制备氮化物半导体材料用氢化物气相外延设备
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